Формирование нанокристаллов Ge, внедренных в оксид кремния, сегрегационным оттеснением Ge
,
Наливайко О. Ю.
,
Турцевич А. С.
,
Гайдук П. И.
3
,
Плебанович В. И.
- Управляющая компания холдинга "ИНТЕГРАЛ"
- Министерство промышленности Республики Беларусь
- Белорусский государственный университет Минск
- ОАО "Планар" 220033, Республика Беларусь, г. Минск, Партизанский пр-т.,2, корп2-31
УДК:
621.315.592
Реферат:
Рассмотрены особенности и проблемы приборов энергонезависимой памяти на основе «плавающих» затворов. Показано, что альтернативным вариантом является использование в качестве элементов хранения информации нанокристаллов Ge, встроенных в затвор МОП-транзистора и расположенных на расстоянии туннелирования от области канала.
Проведено исследование начальных стадий роста слоев сплавов Si1-xGex и уточнение механизма формирования нанокристаллов Ge, инкорпорированных в оксид кремния. Показано, что формирование нанокристаллов Ge происходит за счет сегрегационного оттеснения атомов Ge фронтом окисления и по границам зёрен при термическом окислении слоя сплава Si1-хGeх, полученного химическим осаждением из газовой фазы. Получены МОП структуры с нанокристаллами Ge, обладающие гистерезисом вольт-фарадных характеристик 1,7 – 1,8 В и плотностью токов утечки
(1,5 – 2,2)10-16 А/мкм2.
|